G-25型高精密光刻機(jī)
產(chǎn)品介紹:
設(shè)備概述:
本設(shè)備廣泛應(yīng)用于進(jìn)行批量生產(chǎn)的各大、中、小型企業(yè),它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**,找平力小、使本機(jī)不僅適合各型基片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
主要構(gòu)成
主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、高均勻性曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。
LED曝光頭及部件三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)高精度X、Y、Z、Q調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)
主要功能特點(diǎn)
1. 適用范圍廣
適用于100X100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。
2. 結(jié)構(gòu)**,分辨率高
具有三點(diǎn)式自動(dòng)找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu);具有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán),本機(jī)采用高均勻性的4寸LED專(zhuān)用曝光頭,非常理想的三點(diǎn)式自動(dòng)找平機(jī)構(gòu)和穩(wěn)定可靠的真空密著裝置,使本機(jī)的曝光分辨率大為提高。
3. 套刻精度高、速度快
采用版不動(dòng)片動(dòng)的下置式三層導(dǎo)軌對(duì)準(zhǔn)方式,使導(dǎo)軌自重和受力方向保持一致,自動(dòng)消 除間隙;承片臺(tái)升降采用無(wú)間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌、氣動(dòng)式Z軸升降機(jī)構(gòu)和雙簧片微分離機(jī)構(gòu),使本機(jī)片對(duì)版在分離接觸時(shí)漂移特小,對(duì)準(zhǔn)精度高,對(duì)準(zhǔn)速度快,從而提高了版的復(fù)用率和產(chǎn)品的成品率。
4. 可靠性高
采用進(jìn)口(日本產(chǎn))電磁閥、按鈕、定時(shí)器;采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和
精密的機(jī)械零件,使本機(jī)運(yùn)行具有非常高的可靠性。
5. 特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺(tái)外,還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺(tái),來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面
不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題
主要技術(shù)指標(biāo)
1、曝光類(lèi)型:?jiǎn)蚊妫?
2、曝光面積:110×110mm;
3、曝光照度不均勻性:≤±3%;
4、曝光強(qiáng)度:0~30mw/cm2可調(diào);
5、紫外光束角:≤3°;
6、紫外光中心波長(zhǎng):365nm(也可以配專(zhuān)用曝光頭實(shí)現(xiàn)g線(xiàn)、h線(xiàn)、I線(xiàn)的組合);
7、紫外光源壽命:≥2萬(wàn)小時(shí);
8、曝光分辨率:1μm;
9、曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;
10、顯微鏡掃描范圍:X: ±15mm Y: ±15mm;
11、對(duì)準(zhǔn)范圍:X、Y粗調(diào)±3mm,細(xì)調(diào)±0.3mm;Q粗調(diào)±15°,細(xì)調(diào)±3°;
12、套刻精度:1μm;
13、分離量;0~50μm可調(diào);
14、接觸-分離漂移:≤1μm;
15、曝光方式:接觸式曝光;
16、找平方式:三點(diǎn)式自動(dòng)找平;
17、顯微系統(tǒng):雙視場(chǎng)CCD系統(tǒng),顯微鏡91X~570X連續(xù)變倍(物鏡1.6X-10X連續(xù)變倍),雙物鏡距離可調(diào)范圍50mm~100mm,計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng),19″液晶監(jiān)視器;
18、掩模版尺寸: ≤127×127mm;
19、基片尺寸:≤Φ102mm(或者102×102mm);
20、基片厚度:≤5 mm
21、曝光定時(shí):0~999.9秒可調(diào);
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