G-25D6型高精密單面光刻機(jī)

一、主要用途:

本設(shè)備是我公司專門針對(duì)各大專院校及科研單位對(duì)光刻機(jī)的使用特性研發(fā)的一種精密光刻機(jī)，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

LED曝光頭及部件圖

三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)高精度X、Y、Z、Q 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)

二、主要技術(shù)指標(biāo)：

1、曝光類型：?jiǎn)蚊妫?

2、曝光面積：150×150mm；

3、曝光照度不均勻性： 150×150mm范圍內(nèi)≤±3%；

不均勻性用紫外檢測(cè)計(jì)測(cè)量（UV-A型紫外輻照計(jì)）

E.大 - E.小

U = ±────────×....

E.大 + E.小

測(cè)量5點(diǎn)（如右圖）

4、曝光強(qiáng)度：≤30mw/cm2可調(diào)；

5、紫外光束角：≤3?；

6、紫外光中心波長(zhǎng)：365nm；

7、紫外光源壽命：≥2萬(wàn)小時(shí)；

8、采用電子快門；

9、曝光分辨率：2μm；

10、曝光模式：可選擇一次曝光或套刻曝光；

11、對(duì)準(zhǔn)范圍：X、Y 調(diào)節(jié) ±5mm；Q向調(diào)節(jié)±3°；

12、套刻精度：2μm；

13、分離量；0～50μm可調(diào)；

14、曝光方式：密著曝光，可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

15、找平方式：氣浮找平；

16、顯微系統(tǒng)：雙視場(chǎng)CCD系統(tǒng)，顯微鏡91X～570X連續(xù)變倍（物鏡1.6X～10X連續(xù)變倍），雙物鏡距離可調(diào)范圍50mm～120mm，計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng)，19″液晶監(jiān)視器；

17、掩模版尺寸： 7″×7″英寸；

18、基片尺寸：Φ6″一件;

19、基片厚度：≤5 mm；

因基片的厚度不同，制作承片臺(tái)時(shí)需要進(jìn)行分級(jí)處理，單獨(dú)設(shè)計(jì)制作，1mm為一個(gè)等級(jí)(基片厚度:0-5mm可分為五個(gè)等級(jí)：0-1mm,1-2mm,2-3mm,3-4mm,4-5mm)其中：我公司隨機(jī)配送厚度為0-1mm等級(jí)的承片臺(tái)，若用戶還需其余等級(jí)承片臺(tái)（訂貨時(shí)用戶須說(shuō)明，費(fèi)用另議）。

20、曝光定時(shí)：0～999.9秒可調(diào)；

21、電源：?jiǎn)蜗郃C220V  50HZ ，功耗≤1.5KW；

22、潔凈空氣壓力：≥0.4MPa；

23、真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；

24.設(shè)備所需能源：

主機(jī)電源： 220V±10%   50HZ，1.5KW。

潔凈空氣≥0.4MPα。

真空：-0.07～－0.08MPα。

25.G-26D型高精密光刻機(jī)的組成：

由LED紫外曝光頭、CCD顯微顯示系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、電氣控制系統(tǒng)構(gòu)成。