G-43B4型高精密單面光刻機

產(chǎn)品介紹：

設(shè)備概述:

本設(shè)備是我公司根據(jù)市場需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等，此設(shè)備光的均勻性非常好（在Φ100mm范圍內(nèi)≤±4%），所以大大提高了設(shè)備的光刻質(zhì)量。

主要構(gòu)成
主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點

1.適用范圍廣
適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
2.結(jié)構(gòu)**
本設(shè)備配置有可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
本設(shè)備操作簡單，調(diào)試、維護、修理等都非常簡便。
4.設(shè)備運行穩(wěn)定、可靠
采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設(shè)功能
除標(biāo)準(zhǔn)承片臺外，還可以為用戶定制專用承片臺，來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題

主要技術(shù)指標(biāo)

1．操作方式：手動；

2．曝光模式：接觸式曝光；

3．曝光面積：Φ4"；

4．紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6．曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。