單面光刻機也屬于四川光刻機的一種，下面小編為大家介紹一下單面光刻機的主要構(gòu)成和特點是什么？

1、適用于4″、3″、2″基片，基片厚度≤1.5mm 。

2、具有相對應的版夾盤，□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。

3、調(diào)密著真空度，能實現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光。

4、采用鷹眼曝光頭，光的不均勻性≤±3%，曝光時間0～9999.9秒可調(diào)。

5、具有預定位靠尺：利用基片切邊進行定位，定位精度≤1微米 。

6、具有雙工作承片臺，利用曝光時間，進行卸片、上片工作。

主要用途

主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

由于本機找平機構(gòu)**，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

主要構(gòu)成

主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場顯微鏡(或CCD顯微顯示系統(tǒng))、多點光源（蠅眼）曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

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